新品发布：HIWAVE 相控阵系列超声检测系统

随着 AI 智能、先进半导体封装、新能源、新材料等产业高速迭代，下游零部件的品质标准持续拔高，工业检测也从传统实验室抽样检测，全面转向产线100% 全检模式。针对行业批量探伤、高效质检的核心诉求，Hiwave 依托多年水浸超声检测技术积淀，正式推出P系列水浸相控阵超声检测设备，以高精度、高速度、高稳定性，破解产线全检痛点，目前已落地多家工业产线，实现规模化实际应用。

HIWAVE 相控阵系列超声检测系统

本次推出的相控阵系列超声检测系统，搭载高性能检测主机，硬件参数拉满：支持 128 /256通道独立阵元收发控制，高频采样频率、高信号带宽，检测精度可达0.1mm，细微缺陷无处遁形。

HIWAVE 相控阵系列超声检测系统

设备搭载高稳定性大理石运控平台，X/Y 双轴采用高精度直线电机传动，运行速度快、运行稳定性强，保障每一处检测点位精准定位。整机布线简洁、运维难度低，同时具备优秀的抗干扰能力，适配复杂工业生产环境。

HIWAVE水浸相控阵扫描界面

配套自研操作软件简洁易用、功能强大，支持自定义产品判定标准，可依据不同行业规范自动区分良品 、不良品，判定结果实时同步至批量扫描界面，标准化、智能化完成整线质检工作，大幅提升产线检测效率。

AI自动判读软件

相控阵超声检测常用耦合形式分为接触耦合与水浸耦合两类。传统接触法依靠探头与被测工件直接贴合实现耦合，检测结果易受工件表面粗糙度、人工经验，超声近场区干扰；水浸法在探头和工件间以水体作为耦合介质，耦合稳定性优异，同时规避近场区带来的检测干扰，成像条件更优。相较于接触耦合，水浸式相控阵超声检测缺陷辨识度更强、图像信噪比更高。

相控阵检测原理

Hiwave 水浸相控阵检测技术依托经典惠更斯‑菲涅耳原理，与相控阵雷达同源。设备将相控阵阵元转化为可控子波源，通过电子精准调控各个阵元的激发延时与相位，利用波的干涉效应，灵活控制超声声束的传播方向、角度与聚焦点位。

多晶片同步激发，声束垂直入射；按时序差依次激发，声束定向偏转。声波能量在目标区域聚焦增强，其余区域自然衰减，形成定向、可偏转、可聚焦的超声波束。设备采集分析波束回波信号，即可精准判定工件内部缺陷的深度、尺寸等关键数据，检测结果客观精准。

相控阵超声波传播遇缺陷仿真示意图

HIWAVE水浸相控阵检测液冷板焊接质量

目前 ；Hiwave水浸相控阵检测设备已成功应用于服务器散热器等高附加值零部件检测场景，在批量全检工况下表现优异。凭借水浸相控阵检测精度高、效率快的天然优势，设备完美匹配半导体、新能源、新材料等高精零部件的产线质检需求，为高端制造筑牢品质防线。

液冷板相控阵C扫图

未来，Hiwave将持续深耕超声无损检测领域，以技术创新驱动工业质检升级，为各行业客户提供更专业、更高效的一站式检测解决方案。